亿万先生MR

12

2010

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我國首台自主知識產權12英寸半導體設備進入韓國市場

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　　 位於上海浦東張江高科技園區的盛美半導體設備（上海）有限公司12英寸45納米半導體單片清洗設備，11日正式啟運運往韓國知名存儲器廠商海力士，這也是國內首台具有自主知識產權的高端12英寸半導體設備進入韓國市場。
　　  
　　 盛美半導體設備（上海）有限公司優選執行官王暉博士介紹說，這台設備作為量產設備，裝備了8個獨立的清洗腔，並運用全球獨有的、具有自主知識產權的SAPS兆聲波（空間交變相移技術），較大產出率可達到每小時400片，為45納米和32納米節點矽片清洗提供了效率高、零損傷的顆粒及污染去除方案。
　　  
　　 當今半導體清洗技術中的較大難題是對機械損傷和去除效率的控制。隨着半導體晶片體積的不斷縮小，影響矽片良率的粒子也越來越小，顆粒越小則越難清洗；同時，45納米以下晶片的門電極與電容結構越來越脆弱，在清洗中避免損傷晶片微結構的難度也在不斷加大。
　　  
　　 兆聲波技術能夠通過氣穴振盪來推動微顆粒離開矽片表面，但技術難點在於如何控制兆聲波在矽片表面的能量。王暉博士介紹說，由盛美半導體自主研發的SAPS兆聲波技術，利用空間交變相移原理可以對兆聲波的能量進行*控制，將12英寸矽片面內兆聲波非均勻度控制在2%以內，一舉解決了困擾業界多年的棘手問題。